Ausstattung

Urformtechnik

  • Kaltkammer-Druckgießmaschine Frech DAK 450-54
    mit Impeller und Dosierroboter; echtzeitgeregelt, 4500 kN Schließkraft
  • Feingießanlage Systec FCBC
    Abgussgewicht max. 10 kg Ni-Basislegierung
  • Feingießanlage VIC Unit 7
    Abgussgewicht max. 0,6 kg Ni-Basislegierung
  • Lichtbogenumschmelzofen Bühler Arc Melter AM/05
    Erschmelzen im Labormaßstab (Einwaage max. 150 g)
  • Induktionsschmelzofen EFD HFP12
    Schmelzen im Labormaßstab
  • Horizontal-Attritor Fa. Zoz
    Mechanisches Legieren mit Mahlvolumen 8 l
  • Exzenterschwingmühle Fa. Siebtechnik
    Mechanisches Legieren mit Mahlvolumen 19 l
  • Elektronenstrahlschmelzanlage Arcam A2
    Additive Fertigung aus dem Pulverbett (Standort am ZMP)
  • Elektronenstrahlschmelzanlage Arcam Q10
    Dito, aber besonders kleiner Strahldurchmesser (Standort am ZMP)
  • Elektronenstrahlschmelzanlage ATHENE
    Dito, aber besonders hohe Leistungsdaten

Wärmebehandlung

  • Hochvakuumofen MUT
    bis 1200 °C unter Schutzgas und Hochvakuum
  • Hochvakuumofen Gero LHTM 250/300
    bis 1500 °C unter Schutzgas und Hochvakuum (Standort am ZMP)
  • div. Kammeröfen
    bis 1500 °C

Beschichtungstechnik

  • Mikrowellen-Plasma CVD-Diamantbeschichtungsanlage ASTeX AX 6350
    Gesamtleistung 5 kW, Beschichtungsfläche 20 cm2
  • Heißdraht CVD-Diamantbeschichtungsanlage CemeCon CC800DIA/9
    Gesamtleistung 120 kW, Beschichtungsfläche ca. 5000 cm2 (Standort am ZMP)
  • Heißdraht CVD-Diamantbeschichtungsanlage CemeCon WTMCC800DIA-8 Katharina
    Gesamtleistung 60 kW, Beschichtungsfläche ca. 2000 cm2, Bor-Dotierung möglich
  • Heißdraht CVD-Diamantbeschichtungsanlage CemeCon WTMCC800DIA-8  Eleonore
    Gesamtleistung 60 kW, Beschichtungsfläche ca. 2000 cm2
  • Heißdraht CVD-Diamantbeschichtungsanlage WTM XXL Lucie
    Gesamtleistung 100 kW, Beschichtungsfläche ca. 10000 cm2
  • Heißdraht CVD-Diamantbeschichtungsanlage WTM CVI
    Gesamtleistung 20 kW, Beschichtungsfläche ca. 700 cm2
  • Strukturierungslaser Rofin RSM-100D
    Strukturierungsfläche ca. 200 cm2
  • Strukturierungslaser Rofin 20E LP
    Struktierungsfläche ca. 1000 cm2

Mechanische Prüfung

  • Universalprüfmaschine Hegewald & Peschke retrofit 100
    Zugprüfung bis 100 kN bei RT…1100 °C, Druckprüfung bis 50 kN bei RT
  • Universalprüfmaschine Instron Wolpert
    Zugprüfung bis 2 kN bei RT, Druckprüfung bis 1 kN bei RT
  • Resonanzpulser Roell Amsler Vibro Win
    Dauerschwingversuche bis 50kN bei RT…800 °C
  • Zeitstandanlagen ATS 2330-CC
    Kriechversuche bis 50 kN und 1100 °C
  • Kerbschlaghammer Wolpert W-Testor PW30/15K
    Bestimmung der Kerbschlagarbeit bis 30 kp
  • Tribologie-Prüfstand Wazau TRM 1000
    Scheibe-Scheibe- und Stift-Scheibe-Aufbau bei RT…150 °C
  • Makrohärteprüfer Wolpert Dia-Testor
    Vickers- und Brinellhärteprüfung mit 1…250 kp Prüflast
  • Mikrohärteprüfer Leco M-400-G
    Vickershärteprüfung mit 0,01…1 kp Prüflast
  • Resonanzfrequenzanalysator IMCE RFDA Professional
    Bestimmung von E-Modul und Dämpfung bei RT

Physikalische und optische Analyse

  • DSC/TGA Netzsch STA409
    Differentialthermoanalyse und Thermogravimetrie RT…1550 °C
  • Dilatometer Netzsch DIL 402 C
    Besimmung der Längenausdehnung RT…2000 °C (Standort am ZMP)
  • Laserflash-Apparatur Linseis – LFA 1000
    Bestimmung von Wärmeleitfähigkeit/Temperaturleitfähigkeit bei RT…1200 °C (Standort am ZMP)
  • Ramanspektrometer Renishaw Ramascope 2000
    Bestimmung der Kristallinität
  • Röntgen-Computertomograph Scanco Medical µCT-40
    Auflösung max. 10 µm, abh. von Werkstoff und Probengeometrie
  • Röntgen-Computertomograph Fraunhofer ERZT
    Auflösung max. 10 µm, abh. von Werkstoff und Probengeometrie (Standort am ZMP)
  • Funkenemissionsspektrometer Ametek Spectromaxx
    Chem. Analyse für Fe-, Al-, Mg-, Ni- und Ti-Legierungen (Standort am ZMP)
  • Mikrosonde Jeol JXA 8100
    Ortsauflösende chem. Analyse (wellenlängendispersiv)
  • Ionenmühle Leica EM TIC 3X
    Probenpräparation für die ortsauflösende chem. Analyse
  • Rasterelektronenmikroskop FEI Quanta 450
    mit EDX (ortsauflösende energiedispersive chem. Analyse)
  • Rasterelektronenmikroskop FEI Helios NanoLab 600i FIB
    Hochauflösendes REM mit EDX, FIB (Ionenstrahlskalpell) und EBSD (kristallographische Orientierungsmessung) (Standort am ZMP)
  • Konfokales Lasermikroskop Olympus  Lext OLS 4000
    Berührungslose Oberflächencharakterisierung (Standort am ZMP)
  • Lichtmikroskope Leica DM6000M, Leica M205C, Zeiss Axiophot und Zeiss Axio Imager
    Auflichtmikroskopie (Hell- und Dunkelfeld, Polarisation, Interferenzkontrast nach Nomarski) mit quantitativer Gefügeanalyse (Standort am WTM und ZMP)

Probenpräparation

  • vollausgestattete Metallographie
  • vollausgestattete Mechanikwerkstatt

Simulation

  • Additive Fertigung (Software: In-House-Entwicklungen)
  • Schaumbildung (Software: In-House-Entwicklungen)
  • Thermodynamik und Kinetik (Software: Thermo-Calc, DICTRA und In-House-Entwicklungen)
  • Formfüllung beim Druckgießen (Software: Flow-3D cast)