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Forschung

Titan- und Tantal basierte CVD Beschichtungen

 

Da Eisen und Kobalt die Graphitbildung bei der Diamant-CVD katalysieren, wurden CVD-Hochtemperaturzwischenschichten auf Titan- und Tantalbasis entwickelt, die diese Graphit bildende chemische Wechselwirkung einer Stahl- oder Hartmetalloberfläche verhindert. Eine spezielle Oberflächen-Mikrostruktur der Zwischenschicht ermöglicht eine gute mechanische Verzahnung mit der nachträglich aufwachsenden Diamantschicht. Im Temperaturbereich von 500 °C bis 1100 °C ist die CVD Abscheidung von metallischen Titan- oder Tantalschichten bzw. von deren Karbiden, Nitriden oder Boriden möglich.

Anwendungsbeispiele:

  • TiNB-Zwischenschicht auf X46Cr13 zur optimalen Diamanthaftung.
  • TiB2 auf Graphitfasern zur Stabilisierung bei nachträglicher Zirkon-Schmelzinfiltration.
  • Ta auf Graphit zur Erhöhung der chemischen Stabilität.

 

Graphitfasermatten vor TiB2 Beschichtung
Graphitfasermatten nach TiB2 Beschichtung

Aktuelle(r) Bearbeiter:

M.Sc. Thomas Helmreich

Publikationen: