Diamantelektroden

Die Lebensdauer von Diamant-Titanelektroden wird bei anodischer Belastung durch die elektrochemische Auflösung des Titankarbid Interfaces zwischen Diamant und dem Titansubstrat begrenzt. Mit Tantal oder Niob als wesentlich stabilere Elektrodenmaterialen lassen sich um Größenordnungen längere Lebensdauern der Diamantelektroden erreichen.

Ein neues Forschungsziel ist die Entwicklung von kostengünstigeren Diamantelektroden, für die zuerst Tantal oder Niob Zwischenschichten auf Titan- oder Stahlblechen aufgebracht werden. Danach erfolgt die Diamantbeschichtung mit Bor-Dotierung.

• Böhm AL., Koch M., Rosiwal S., Burkovski A., Karl M., Grobecker-Karl T.:
  Electrochemical Disinfection of Experimentally Infected Teeth by Boron-Doped Diamond Electrode Treatment
  In: Journal of Clinical Medicine (2019)
  ISSN: 2077-0383
  DOI: 10.3390/jcm8122037
• Göltz M., Koch M., Detsch R., Karl M., Burkovski A., Rosiwal S.:
  Influence of In-Situ Electrochemical Oxidation on Implant Surface and Colonizing Microorganisms Evaluated by Scanning Electron Microscopy
  In: Materials 12 (2019), Art.Nr.: 3977
  ISSN: 1996-1944
  DOI: 10.3390/ma12233977
• Schorr B., Ghanem H., Rosiwal S., Geißdörfer W., Burkovski A.:
  Elimination of bacterial contaminations by treatment of water with boron-doped diamond electrodes
  In: World Journal of Microbiology & Biotechnology 35 (2019), Art.Nr.: 48
  ISSN: 0959-3993
  DOI: 10.1007/s11274-019-2624-y
• Özkan S., Ghanem H., Mohajernia S., Hejazi S., Fromm T., Borchardt R., Rosiwal S., Schmuki P.:
  Boron-doped diamond (BDD) as an efficient back contact to thermally grown TiO2 photoelectrodes
  In: ChemElectroChem (2019)
  ISSN: 2196-0216
  DOI: 10.1002/celc.201901073
• Jum'h I., Abdelhay A., Telfah A., Al-Akhras MA., Al-Kazwini A., Rosiwal S.:
  Veratric acid removal from water by electrochemical oxidation on BDD anode
  2nd International Conference on Advanced Materials, ICAM 2017 (Irbid, 10. Juli 2017 - 13. Juli 2017)
  In: IOP Conference Series: Materials Science and Engineering Volume 305 2018
  DOI: 10.1088/1757-899X/305/1/012021
• Haase A., Peters A., Rosiwal S.:
  Growth and thermoelectric properties of nitrogen-doped diamond/graphite
  In: Diamond and Related Materials 63 (2016), S. 222-226
  ISSN: 0925-9635
  DOI: 10.1016/j.diamond.2015.10.023
• Jum'h I., Abdelhay A., Al-Ta'ani H., Telfah A., Alnaief M., Rosiwal S.:
  Fabrication and application of boron doped diamond BDD electrode in olive mill wastewater treatment in Jordan
  In: Journal of Water Reuse and Desalination 7 (2016)
  ISSN: 2408-9370
  DOI: 10.2166/wrd.2016.062
• Ghanem H., Rosiwal S., Göltz M., Espin D.:
  Application of Electrochemical Treatment Technology of Produced Water of a Heavy Oil Field, via Boron Doped Diamond BDD Electrode
  SPE Latin America and Caribbean Heavy and Extra Heavy Oil Conference (Lima, 19. Oktober 2016 - 20. Oktober 2016)
  In: Proceedings of SPE Latin America and Caribbean Heavy and Extra Heavy Oil Conference 2016
• Lodes M., Sailer S., Rosiwal S., Singer R.:
  Adhesive bonding and brazing of nanocrystalline diamond foil onto different substrate materials
  In: Applied Surface Science 282 (2013), S. 335-341
  ISSN: 0169-4332
  DOI: 10.1016/j.apsusc.2013.05.129
• Uhlmann E., Langmack M., Fecher J., Rosiwal S., Singer R.:
  Using boron doped diamond foils for fabrication of micro cavities with EDM
  13th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2013
  URL: https://www.scopus.com/inward/record.uri?partnerID=HzOxMe3b&scp=84908155805&origin=inward
• Uhlmann E., Rosiwal S., Bayerlein K., Röhner M.:
  Influence of grain size on the wear behavior of CVD diamond coatings in micro-EDM
  In: International Journal of Advanced Manufacturing Technology 47 (2010), S. 919-922
  ISSN: 0268-3768
  DOI: 10.1007/s00170-009-2131-7
• Uhlmann E., Röhner M., Rosiwal S., Domingos D.:
  Influence of coatings in micro-EDM
  16th International Symposium on Electromachining, ISEM 2010 (Shanghai)
  URL: https://www.scopus.com/inward/record.uri?partnerID=HzOxMe3b&scp=84883897735&origin=inward