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Forschung

Weiterentwicklung und Up-scaling des Hot-Filament Verfahrens für die Diamant CVD

 

Da eine Umsetzung der an Laboranlagen gewonnenen wissenschaftliche Erkenntnisse in technisch und ökonomisch funktionierende Produkte gerade im Bereich der Diamant-CVD an die passende Maschinentechnologie gebunden ist, entwickeln wir die vorhandene Hot-Filament CVD Technologie ständig weiter. So gelang der Bau einer Versuchsanlage mit der weltweit größten CVD-Diamant Beschichtungsfläche.

Entwicklungskenndaten:

  • Hochskalierung der Hot-Filament Diamantbeschichtungsfläche auf bis zu 10.000 cm2.
  • Flexible Kammer-Set-ups zur CVD Diamantbeschichtung von Kleinteilen (Stückgewicht < 1 g) bis zu großen Bauteilen (Stückgewicht > 40 kg).
  • Reduzierung des Energieaufwandes (Elektrische Leistung pro Karat) für die Hot-Filament CVD.
  • Homogenisierung von Diamantwachstumsrate und Bor-Dotierung für 2D- und 3D- Substrate.
  • Reproduzierbar einstellbare Substrattemperaturen von 650 °C bis 950 °C.
  • Integration von Wärmebehandlungsverfahren in den Hot-Filament Prozess.
  • Entwicklung von in-situ Messtechnik z.B. online Messung der Diamantwachstumsrate.

Ansprechpartner:

PD Dr.-Ing. habil. Stefan M. Rosiwal

Publikationen: